ATC Orion 5 RF/DC溅射系统(AJA 国际)
Features:
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主沉积室: 14.6“高x 12”外径，S/S真空室.
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Con-Focal溅射: 三个2英寸磁控溅射枪，带有整体隔离烟囱.
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直流和射频发生器: 两个300瓦的射频发电机和一个750瓦的直流发电机.
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石英晶体厚度监测仪.
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衬底架: accommodates substrates up to 4" diameter; mounts to top of chamber for sputter up orientation; continous motorized rotation (0-40RPM) with controller; radiant heating to 850 C with quartz halogen lamps (+/- 1 degree C temp. stability); capable of being heated in an O2 environment;
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气体处理: 质量流量控制气体管线(Ar) - 20 sccm，带气动隔离阀和过滤器.
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沉积均匀性: 通常是+/- 2.5%的厚度均匀性超过4”直径的基板.
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基室真空度: 大于或等于3.0×可托.
萨凡纳100 ALD (UltraTech / Cambridge NanoTech)
Features:
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基板尺寸: 最大200mm
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衬底温度: 25°C - 500°C; ±0.2°C
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前体来源: 最多6个，加热
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沉积均匀性: <±1%
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沉积: 高速/超高宽高比
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Control: Labview-USB-PC
特高压PLD系统
3118电子束蒸发器(瓦里安)
